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六氟乙烷

化學(xué)式：C2F6

純度規(guī)格：5N

用途：清洗、刻蝕

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）、光纖

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八氟丙烷

化學(xué)式：C3F8

純度規(guī)格：5N5

用途：清洗、刻蝕

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）

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六氟丁二烯

化學(xué)式：C4F6

純度規(guī)格：4N

用途：刻蝕

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）

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氘氣

化學(xué)式：D2

純度規(guī)格：5N

用途：熱處理、光纖抗老化處理

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/3D NAND）、光纖

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六氟化鎢

化學(xué)式：WF6

純度規(guī)格：6N

用途：沉積

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）

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氦氮混氣、氙氫混氣、氧氦混氣、氪氖混氣、氬氙氖混氣等

純度規(guī)格：6N

用途：刻蝕、退火、光刻等

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）、顯示面板、光纖

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氯化氫

化學(xué)式：HCl

純度規(guī)格：5N

用途：清洗、刻蝕

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）

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四氟化硅

化學(xué)式：SiF4

純度規(guī)格：5N

用途：沉積

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC）、光纖

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八氟環(huán)丁烷

化學(xué)式：C4F8

純度規(guī)格：5N

用途：清洗、刻蝕

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）

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氟化氫

化學(xué)式：HF

純度規(guī)格：5N

用途：清洗、刻蝕

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）

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三氟化氮

化學(xué)式：NF3

純度規(guī)格：5N

主要用途：清洗、刻蝕

主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）、 顯示面板

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